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MOCVD反应喷淋装置的数值模拟

垂直喷淋式MOCVD反应器的特点是利用大量密布在showerhead上微小喷口,将反应气体从很近的距离内喷向基片,使到达基片上方各点的反应气体浓度基本相同。喷淋装置必须满足能够均匀分配反应气体的分布,以达到均匀生长晶体的目的。喷淋装置是MOCVD反应器的关键部件,牵涉到多个系统,结构复杂,难于加工,实验成本很高。CFD的方法可以经济高效的解决设备的优化问题。因此,理想能源设备(上海)有限公司与上海超级计算中心合作,开展MOCVD反应喷淋装置的数值模拟工作,对反应器喷淋装置的气体分布情况进行模拟分析,找出影响气体分布均匀性的主要因素,进行优化设计,从而节约了巨额实验成本,大大缩短了研发周期。

径向流速分布

整体流速分布

创建时间:2019-01-23 05:35